日本在EUV光刻机领域虽已退出竞争，但仍是全球第二大光刻设备供应国。近年来，多家日本企业持续投入研发，探索可替代EUV的新型光刻技术路径，其中以NIL纳米压印技术为主要方向。
此前，佳能、尼康等企业已相继展示相关技术成果。近日，大日本印刷株式会社（DNP）宣布成功开发出10nm级别的NIL纳米压印技术，能够直接将电路图案转印至基板，该技术具备支持1.4nm工艺节点逻辑芯片制造的能力。
在技术实现方面，DNP采用SADP自对准双重成像工艺，通过一次曝光与两次图形化步骤，实现精度翻倍的微缩效果，满足先进制程对分辨率的要求。同时，该方案在功耗控制上表现突出，据称运行能耗约为当前主流光刻工艺的十分之一。
DNP对NIL技术的研发积累已超过二十年，目前其技术成熟度已达到部分替代EUV光刻的水平，为芯片制造商提供了高精度制造的另一可行方案。现阶段，公司正与多家设备及材料供应商展开合作，推进技术评估与整合验证。
按照规划，在完成客户验证并构建完善的量产与供应链体系后，DNP预计于2027年启动该技术的规模化出货。
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